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第131章 十倍精度光刻

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—除非EUV研发成功,否则,麒麟芯片的硬件性能想要再提升,已经非常困难了。

所以,他们才会对卷耳智能科技的多线程大小核调度模块如此的上心——性能不够,调度来凑。

而事实上,这个模块没有让他们失望——纸面数据直接提升了15%,实际体验的话,感知甚至更高。

是真的让这一代麒麟,有了至少不输8+的纸面数据,实际体验直追8G2都不是问题。

但现在,纪弘告诉他,做真正的5nm!

海思的设计能力现在已经无人怀疑,甚至在很多人眼里,它已经是世界最强,没有之一——能在落后制程工艺下设计出现在的麒麟,哪怕是苹果也不容易做到。

如果工艺再能提上去,那……

光想想,于东都觉得是美的。

……

“先参观一下吧。”纪弘看出于东的惊讶,话已经点到,解释什么都是多余的,摆事实在任何时候都会好过讲道理。

俩人换好衣服鞋子手套头套,来到产线。

“杨工,介绍一下现在的情况吧。”纪弘引这于东站在产线正在工作的光刻机屏幕之前,喊来总工程师,如此说道。

“无限套刻测试一直在循环进行,目前,极端线宽已经做到了22nm……”

于东听到22nm的时候,内心还一笑,这也不高嘛。

但是随即反应过来,当即惊呼道:“多少?”

这他么是220nm的光刻机啊,搞我玩儿呢吧,而且这玩意儿用的是i线365nm的光源啊!

华为利用SAQP技术实现4倍精度的光刻,这其中有多困难,只有做过才知道。

而且良率从几乎没法看到现在的渐渐提高,也经历了非常漫长的时间——说白了,这玩意是实在没办法了才去搞的。

如果国内有EUV,何至于费这么大的劲!

“10倍精度!22nm!”杨工程师确认道。

“你们用的什么方法?”于东没有怀疑杨工骗他,这东西就在这儿,骗他没有任何意义,纪弘想跟他谈什么,也不差这一点筹码。

“最简单的方法。”杨工程师也是认真的回复道:“就是把需要光刻的图分到多个掩膜版上,然后一遍一遍的重复光刻-刻蚀-光刻-刻蚀……就这样。”

“这……”这种方法于东当然知道,就是最原始的方法。

但是精度怎么控制啊?这东西在所有的工艺


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