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第659章 光刻机里的DPP方案

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  “目前我们的库存勉强能够对付一年,如果一年后还没有完全寻找到国产替代的话,就要面临停产,又或者冒着良率下降的风险,硬着头皮去做。”

沪上,华芯国际。

梁老忧心忡忡道:“芯片设计不是什么大问题,玄武EDA完成度很高,但无论如何设计出来的芯片也只是个PPT,最终还是要落地的。”

目前,国内芯片供应链在部份领域已实现突破,但几个关键环节仍依赖国外进口,尤其在高端芯片制造、核心设备和材料、特定芯片设计工具等方面存在显著短板。

陈平江的天元资本早期投资那些国产芯片产业链是有效果的,但仍然不足以颠覆多年的差距。

孟老也道:“目前国内的芯片自给率差不多40%,高端芯片完全依赖进口,现在三星和台积电已经成功量产出7纳米,我们追赶的脚步一刻也不能停下,幸好14纳米制造工艺突破有望,但更高的7纳米就玄乎了,光刻机始终是个绕不过去的坎儿。”

他话音一转,“不过采用多重曝光技术的话,应该可以通过DUV实现7纳米。”

好消息是长江存储和长鑫存储提前两年布局,所以DRAM和NAND闪存芯片不再需要通过三星和海力士进口。

坏消息是射频芯片和FPGA芯片仍然无法解决。

“射频芯片的国产替代方案是唯捷创芯的产品,但良率是个大问题。”

FPGA芯片说白了就是逻辑芯片,翻译过来叫做现场可编程门阵列。

FPGA广泛应用于通信基站和工业控制领域,但国内厂商如紫光同创、安路科技等尚处于技术追赶阶段,市场份额几乎被赛灵思和英特尔垄断。

虽然早就预料到突破的过程会非常难,但只有真正深入进去才知道有多难。

这就像是码农写代码,但凡哪里写的不对,就会导致最后程序跑不通。

半导体材料领域同样困难重重。

12英寸硅片主要依赖日本信越化学、SUMCO等企业,国产化率不足20%。

国产替代方案是沪硅产业和中环股份。

前者在去年实现12英寸硅片小规模量产,但仍处于技术验证和产能爬坡阶段;后者在8英寸硅片领域已实现稳定供应。

最惨的还要数光刻胶,尤其是ARF和EUV级别的光刻胶。

高端光刻胶几乎全部依赖日本企业(如TOK、JSR、信越化学),国产化率低于5%。


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